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Microstructural characterisation of TiC-TiN gradient coatings deposited by non-reactive magnetron sputtering

Leiste, H.; Stüber, M.; Schier, V.; Holleck, H.



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seit 20.11.2018
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 1999
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110044576
HGF-Programm 42 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in Materials Science Forum
Seiten 467-75
Erscheinungsvermerk Functionally Graded Materials : Proc.of the 5th Internat.Symp., Dresden, October 26-29, 1998 Uetikon-Zürich : Trans Tech Publ., 1999 ( ; 308-311)
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