Reactive ion etching for the production of metal microstructures by hot embossing
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2000 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110047051 |
| HGF-Programm | 41.01.03 (Vor POF, LK 01) |
| Erschienen in | Microsystem Technologies |
| Band | 6 |
| Seiten | 11-14 |
| Erscheinungsvermerk | (1999) |