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Reactive ion etching for the production of metal microstructures by hot embossing

Roetting, O.; Heckele, M.; Bacher, W.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2000
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110047051
HGF-Programm 41.01.03; LK 01
Erschienen in Microsystem Technologies
Band 6
Seiten 11-14
Erscheinungsvermerk (1999)
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