KIT | KIT-Bibliothek | Impressum

Fabrication of HARM structures by deep-X-ray lithography using graphite mask technology

Coane, P.; Giasolli, R.; Ledger, S.; Lian, K.; Ling, Z.; Göttert, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Projektgruppe Errichtung ANKA (PEA)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2000
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110047053
HGF-Programm 41.01.01; LK 01
Erschienen in Microsystem Technologies
Band 6
Seiten 94-98
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page