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Fabrication of HARM structures by deep-X-ray lithography using graphite mask technology

Coane, P.; Giasolli, R.; Ledger, S.; Lian, K.; Ling, Z.; Göttert, J.


Zugehörige Institution(en) am KIT Projektgruppe Errichtung ANKA (PEA)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2000
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110047053
HGF-Programm 41.01.01 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in Microsystem Technologies
Band 6
Seiten 94-98
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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