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Deep X-ray lithography for the fabrication of microstructures at ELSA

Pantenburg, F.J.; Mohr, J.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/S0168-9002(01)00629-5
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seit 13.05.2018
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2001
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110047236
HGF-Programm 41.01.01 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A
Band 467-468
Seiten 1269-73
Erscheinungsvermerk SRI 2000 : Proc.of the 7th Internat.Conf.on Synchrotron Radiation Instrumentation, Berlin, August 21-25, 2000
Nachgewiesen in Scopus
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