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Adhesion improvement in the deep X-ray lithography process using a central beam-stop

Perennes, F.; Pantenburg, F.J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2001
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110049536
HGF-Programm 41.01.01 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B
Band 174
Seiten 317-23
Externe Relationen Abstract/Volltext
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