Adhesion improvement in the deep X-ray lithography process using a central beam-stop
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2001 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110049536 |
| HGF-Programm | 41.01.01 (Vor POF, LK 01) |
| Erschienen in | Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B |
| Band | 174 |
| Seiten | 317-23 |
| Externe Relationen | Abstract/Volltext |