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Extreme ultraviolet (EUV) sources for lithography based on synchrotron radiation

Dattoli, G.; Doria, A.; Gallerano, G.P.; Giannessi, L.; Hesch, K.; Moser, H.O.; Ottaviani, P.L.; Pellegrin, E.; Rossmanith, R.; Steininger, R.; Saile, V.; Wüst, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Stabsabteilung Technologietransfer und Marketing (TTM)
Institut für Festkörperphysik (IFP)
Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2001
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110049811
HGF-Programm 51.04.04; LK 01
Erschienen in Wissenschaftliche Berichte
Band 474
Seiten 259-72
Erscheinungsvermerk FZKA-6606 (Mai 2001) Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A
URLs Abstract (HTML)
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