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Extreme ultraviolet (EUV) sources for lithography based on synchrotron radiation

Dattoli, G.; Doria, A.; Gallerano, G. P.; Giannessi, L.; Hesch, K. ORCID iD icon; Moser, H. O.; Ottaviani, P. L.; Pellegrin, E.; Rossmanith, R.; Steininger, R.; Saile, V.; Wüst, J.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Festkörperphysik (IFP)
Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Stabsabteilung Technologietransfer und Marketing (TTM)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2001
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110049811
HGF-Programm 51.04.04 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in Wissenschaftliche Berichte
Band 474
Seiten 259-72
Erscheinungsvermerk FZKA-6606 (Mai 2001) Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A
Externe Relationen Abstract/Volltext
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