Extreme ultraviolet (EUV) sources for lithography based on synchrotron radiation
Dattoli, G.; Doria, A.; Gallerano, G. P.; Giannessi, L.; Hesch, K.
; Moser, H. O.; Ottaviani, P. L.; Pellegrin, E.; Rossmanith, R.; Steininger, R.; Saile, V.; Wüst, J.
; Moser, H. O.; Ottaviani, P. L.; Pellegrin, E.; Rossmanith, R.; Steininger, R.; Saile, V.; Wüst, J.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Festkörperphysik (IFP) Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) Stabsabteilung Technologietransfer und Marketing (TTM) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2001 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110049811 |
| HGF-Programm | 51.04.04 (Vor POF, LK 01) |
| Erschienen in | Wissenschaftliche Berichte |
| Band | 474 |
| Seiten | 259-72 |
| Erscheinungsvermerk | FZKA-6606 (Mai 2001) Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A |
| Externe Relationen | Abstract/Volltext |