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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s00542-002-0245-z

Numerical simulation of thermal distortions in deep and ultra deep X-ray lithography

Achenbach, S.; Pantenburg, F.J.; Mohr, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2003
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110050013
HGF-Programm 51.04.04; LK 02
Erschienen in Microsystem Technologies
Band 9
Seiten 220-24
Erscheinungsvermerk 4th Internat.Workshop on High-Aspect-Ratio Micro-Structure Technology (HARMST 2001), Baden-Baden, June 17-19, 2001
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