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Micro-optical distance sensor fabricated by deep x-ray lithography

Nakajima, H.; Ruther, P.; Mohr, J.; Tsugai, M.; Usami, T.


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1117/1.1387987
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Zitationen: 5
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Zitationen: 5
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2001
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110050389
HGF-Programm 41.07.02 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in Optical Engineering
Band 40
Seiten 1667-73
Nachgewiesen in Dimensions
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