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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1117/1.1387987
Web of Science
Zitationen: 4

Micro-optical distance sensor fabricated by deep x-ray lithography

Nakajima, H.; Ruther, P.; Mohr, J.; Tsugai, M.; Usami, T.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2001
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110050389
HGF-Programm 41.07.02; LK 01
Erschienen in Optical Engineering
Band 40
Seiten 1667-73
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