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Characterisation of silicon carbide and silicon nitride thin films and Si₃N₄/SiC multilayers

Lattemann, M. 1; Ulrich, S. 1; Holleck, H. 1; Stüber, M. 1; Leiste, H. 1
1 Forschungszentrum Karlsruhe (FZKA)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/S0925-9635(01)00622-7
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Zitationen: 20
Dimensions
Zitationen: 15
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2002
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0925-9635, 1879-0062
KITopen-ID: 110051061
HGF-Programm 42 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in Diamond and related materials
Verlag Elsevier
Band 11
Heft 3-6
Seiten 1248-1253
Erscheinungsvermerk Proc.of the 12th European Conf.on Diamond, Diamond-like Materials, Carbon Nanotubes, Nitride and Silicon Carbide (Diamond 2001), Budapest, H, September 2-9, 2001
Nachgewiesen in Dimensions
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