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Deep X-ray lithography at ELETTRA using a central beam-stop to enhance adhesion

Perennes, F.; Vesselli, E.; Pantenburg, F.J.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s00542-001-0161-7
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Zitationen: 5
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2002
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110053009
HGF-Programm 41.01.01 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in Microsystem Technologies
Band 8
Seiten 330-34
Nachgewiesen in Dimensions
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