KIT | KIT-Bibliothek | Impressum
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/S0257-8972(03)00612-1

Alloyed and hydrogenated diamond-like carbon thin films deposited by a new high performance microwave low pressure plasma source

Niederberger, L.; Holleck, H.; Leiste, H.; Stüber, M.; Ulrich, S.; Baumann, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2003
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110053214
HGF-Programm 42.02.02; LK 01
Erschienen in Surface and Coatings Technology
Band 174-175
Erscheinungsvermerk 8th Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering, Garmisch-Partenkirchen, September 9-13, 2002 Book of Abstracts S.311, S.708-12
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page