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Investigation and characterisation of silicon nitride and silicon carbide thin films

Lattemann, M. 1; Nold, E. 1; Ulrich, S. 1; Leiste, H. 1; Holleck, H. 1
1 Forschungszentrum Karlsruhe (FZKA)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/S0257-8972(03)00695-9
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Zitationen: 68
Web of Science
Zitationen: 65
Dimensions
Zitationen: 62
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2003
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110053215
HGF-Programm 42.02.02 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in Surface and Coatings Technology
Band 174-175
Erscheinungsvermerk 8th Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering, Garmisch-Partenkirchen, September 9-13, 2002 Book of Abstracts S.266, S.365-69
Nachgewiesen in Dimensions
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