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Investigation and characterisation of silicon nitride and silicon carbide thin films

Lattemann, M.; Nold, E.; Ulrich, S.; Leiste, H.; Holleck, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2003
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.1016/S0257-8972(03)00695-9
KITopen ID: 110053215
HGF-Programm 42.02.02; LK 01
Erschienen in Surface and Coatings Technology
Band 174-175
Erscheinungsvermerk 8th Internat.Conf.on Plasma Surface Engineering, Garmisch-Partenkirchen, September 9-13, 2002 Book of Abstracts S.266, S.365-69
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