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Deep sub micron high aspect ratio polymer structures produced by hard X-ray lithography

Achenbach, S. 1
1 Forschungszentrum Karlsruhe (FZKA)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s00542-004-0379-2
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Zitationen: 15
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Zitationen: 12
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2004
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110054888
HGF-Programm 51.04.04 (POF I, LK 02) NEUART.KOMPON.U.SYST.F.SYNCHROTRONSTR.
Erschienen in Microsystems Technologies
Band 10
Seiten 493-97
Erscheinungsvermerk 5th Biennial High Aspect Ratio Micro-Structure Technology Workshop (HARMST 2003), Monterey, Calif., June 15-17, 2003
Nachgewiesen in Web of Science
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