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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s00542-004-0386-3
Web of Science
Zitationen: 6

Shape deviations in masks for optical structures produced by electron beam lithography

Last, A.; Hein, H.; Mohr, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2004
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110054889
HGF-Programm 41.07.02 (POF I, LK 01)
Erschienen in Microsystems Technologies
Band 10
Seiten 527-30
Erscheinungsvermerk 5th Biennial High Aspect Ratio Micro-Structure Technology Workshop (HARMST 2003), Monterey, Calif., June 15-17, 2003
Nachgewiesen in Web of Science
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