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Shape deviations in masks for optical structures produced by electron beam lithography

Last, A. 1; Hein, H. 1; Mohr, J. 1
1 Forschungszentrum Karlsruhe (FZKA)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s00542-004-0386-3
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Zitationen: 9
Dimensions
Zitationen: 8
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2004
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110054889
HGF-Programm 41.07.02 (POF I, LK 01) Metallische Mikrostrukturapparate
Erschienen in Microsystems Technologies
Band 10
Seiten 527-30
Erscheinungsvermerk 5th Biennial High Aspect Ratio Micro-Structure Technology Workshop (HARMST 2003), Monterey, Calif., June 15-17, 2003
Nachgewiesen in Dimensions
Web of Science
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