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Influence of low energy ion implantation on mechanical properties of magnetron sputtered metastable (Cr,Al)N thin films

Ulrich, S.; Holleck, H.; Ye, J.; Leiste, H.; Loos, R.; Stüber, M.; Pesch, P.; Sattel, S.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2003
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110055437
HGF-Programm 42.02.02; LK 01
Erschienen in Thin Solid Films
Band 437
Seiten 164-69
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