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Influence of low energy ion implantation on mechanical properties of magnetron sputtered metastable (Cr,Al)N thin films

Ulrich, S.; Holleck, H.; Ye, J.; Leiste, H.; Loos, R.; Stüber, M.; Pesch, P.; Sattel, S.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/S0040-6090(03)00595-9
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Zitationen: 53
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Zitationen: 52
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2003
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0040-6090, 1879-2731
KITopen-ID: 110055437
HGF-Programm 42.02.02 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in Thin solid films
Verlag Elsevier
Band 437
Heft 1-2
Seiten 164-169
Nachgewiesen in Web of Science
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