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Thermal stability and crystallization kinetics of sputtered amorphous Si₃N₄ films

Schmidt, H.; Gruber, W.; Borchardt, G.; Bruns, M. 1; Rudolphi, M.; Baumann, H.
1 Forschungszentrum Karlsruhe (FZKA)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.tsf.2003.11.274
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Zitationen: 34
Dimensions
Zitationen: 36
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Instrumentelle Analytik (IFIA)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2004
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110057085
HGF-Programm 41.05.01 (POF I, LK 01) MOX-Sensoren
Erschienen in Thin Solid Films
Band 450
Seiten 346-51
Nachgewiesen in Dimensions
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