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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.tsf.2003.11.274
Web of Science
Zitationen: 23

Thermal stability and crystallization kinetics of sputtered amorphous Si₃N₄ films

Schmidt, H.; Gruber, W.; Borchardt, G.; Bruns, M.; Rudolphi, M.; Baumann, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Instrumentelle Analytik (IFIA)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2004
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110057085
HGF-Programm 41.05.01 (POF I, LK 01)
Erschienen in Thin Solid Films
Band 450
Seiten 346-51
Nachgewiesen in Web of Science
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