Thermal stability and crystallization kinetics of sputtered amorphous Si₃N₄ films
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Instrumentelle Analytik (IFIA) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2004 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110057085 |
| HGF-Programm | 41.05.01 (POF I, LK 01) MOX-Sensoren |
| Erschienen in | Thin Solid Films |
| Band | 450 |
| Seiten | 346-51 |
| Nachgewiesen in | Web of Science Scopus Dimensions |