The diffusion of ion implanted hydrogen in amorphous Si₃N₄:H films
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Instrumentelle Analytik (IFIA) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2004 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110057888 |
| HGF-Programm | 41.05.01 (POF I, LK 01) MOX-Sensoren |
| Erschienen in | Journal of Physics: Condensed Matter |
| Band | 16 |
| Seiten | 4233-44 |
| Nachgewiesen in | Scopus Web of Science Dimensions OpenAlex |