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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1088/0953-8984/16/24/005
Web of Science
Zitationen: 7

The diffusion of ion implanted hydrogen in amorphous Si₃N₄:H films

Schmidt, H.; Gruber, W.; Borchardt, G.; Bruns, M.; Rudolphi, M.; Baumann, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Instrumentelle Analytik (IFIA)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2004
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110057888
HGF-Programm 41.05.01; LK 01
Erschienen in Journal of Physics: Condensed Matter
Band 16
Seiten 4233-44
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