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The diffusion of ion implanted hydrogen in amorphous Si₃N₄:H films

Schmidt, H.; Gruber, W.; Borchardt, G.; Bruns, M. 1; Rudolphi, M.; Baumann, H.
1 Forschungszentrum Karlsruhe (FZKA)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1088/0953-8984/16/24/005
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Zitationen: 11
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Zitationen: 8
Dimensions
Zitationen: 10
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Instrumentelle Analytik (IFIA)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2004
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110057888
HGF-Programm 41.05.01 (POF I, LK 01) MOX-Sensoren
Erschienen in Journal of Physics: Condensed Matter
Band 16
Seiten 4233-44
Nachgewiesen in Dimensions
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