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High resolution x-ray mask fabrication by a 100 keV electron-beam lithography system

Wang, L.; Desta, Y. M.; Fettig, R. K. 1; Goettert, J.; Hein, H. 1; Jakobs, P. 1; Schulz, J. 1
1 Forschungszentrum Karlsruhe (FZKA)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1088/0960-1317/14/5/010
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Zitationen: 10
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Zitationen: 9
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2004
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110057896
HGF-Programm 41.01.01 (POF I, LK 01) LITHOGRAPHIE
Erschienen in Journal of Micromechanics and Microengineering
Band 14
Seiten 722-26
Nachgewiesen in Web of Science
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