High resolution x-ray mask fabrication by a 100 keV electron-beam lithography system
Wang, L.; Desta, Y. M.; Fettig, R. K. 1; Goettert, J.; Hein, H. 1; Jakobs, P. 1; Schulz, J.
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1 Forschungszentrum Karlsruhe (FZKA)
11 Forschungszentrum Karlsruhe (FZKA)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2004 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110057896 |
| HGF-Programm | 41.01.01 (POF I, LK 01) LITHOGRAPHIE |
| Erschienen in | Journal of Micromechanics and Microengineering |
| Band | 14 |
| Seiten | 722-26 |
| Nachgewiesen in | Scopus Dimensions Web of Science |