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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1088/0960-1317/14/5/010
Web of Science
Zitationen: 6

High resolution x-ray mask fabrication by a 100 keV electron-beam lithography system

Wang, L.; Desta, Y.M.; Fettig, R.K.; Goettert, J.; Hein, H.; Jakobs, P.; Schulz, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2004
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110057896
HGF-Programm 41.01.01 (POF I, LK 01)
Erschienen in Journal of Micromechanics and Microengineering
Band 14
Seiten 722-26
Nachgewiesen in Web of Science
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