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Deep photo-lithography characterization of SU-8 resist layers

Reznikova, E.F.; Mohr, J.; Hein, H.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s00542-004-0432-1
Scopus
Zitationen: 39
Web of Science
Zitationen: 34
Dimensions
Zitationen: 43
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2005
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110061130
HGF-Programm 51.04.04 (POF I, LK 01)
Erschienen in Microsystems Technologies
Band 11
Seiten 282-91
Nachgewiesen in Scopus
Dimensions
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