Deep photo-lithography characterization of SU-8 resist layers
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2005 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110061130 |
| HGF-Programm | 51.04.04 (POF I, LK 01) |
| Erschienen in | Microsystems Technologies |
| Band | 11 |
| Seiten | 282-91 |
| Nachgewiesen in | Scopus Dimensions Web of Science |