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In situ deposition of MgB₂ thin films by magnetron cosputtering and sputtering combined with thermal evaporation

Schneider, R.; Geerk, J.; Linker, G.; Ratzel, F.; Zaitsev, A.G.; Obst, B.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.physc.2005.04.004
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Zitationen: 8
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Zitationen: 8
Dimensions
Zitationen: 9
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Festkörperphysik (IFP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2005
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110061316
HGF-Programm 52.01.01 (POF I, LK 01) Elektr.Eigenschaften.Magnetismus u.SL
Erschienen in Physica C
Band 423
Seiten 89-95
Erscheinungsvermerk DOI:10.1016/j.physc.2005.04.00
Nachgewiesen in Dimensions
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