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Uniformity and stoichiometry of large-area multicomponent oxide thin films deposited by sputtering

Tao, B.W.; Chen, J.J.; Liu, X.Z.; Li, Y.R.; Fromknecht, R.; Geerk, J.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.tsf.2005.03.013
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Zitationen: 4
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Festkörperphysik (IFP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2005
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110062007
HGF-Programm 52.01.01 (POF I, LK 01) Elektr.Eigenschaften.Magnetismus u.SL
Erschienen in Thin Solid Films
Band 485
Seiten 47-52
Nachgewiesen in Dimensions
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