Uniformity and stoichiometry of large-area multicomponent oxide thin films deposited by sputtering
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Festkörperphysik (IFP) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2005 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110062007 |
| HGF-Programm | 52.01.01 (POF I, LK 01) Elektr.Eigenschaften.Magnetismus u.SL |
| Erschienen in | Thin Solid Films |
| Band | 485 |
| Seiten | 47-52 |
| Nachgewiesen in | Dimensions Web of Science Scopus |