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Uniformity and stoichiometry of large-area multicomponent oxide thin films deposited by sputtering

Tao, B. W. 1; Chen, J. J.; Liu, X. Z.; Li, Y. R.; Fromknecht, R. 1; Geerk, J. 1
1 Forschungszentrum Karlsruhe (FZKA)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.tsf.2005.03.013
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Zitationen: 4
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Zitationen: 4
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Festkörperphysik (IFP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2005
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110062007
HGF-Programm 52.01.01 (POF I, LK 01) Elektr.Eigenschaften.Magnetismus u.SL
Erschienen in Thin Solid Films
Band 485
Seiten 47-52
Nachgewiesen in Scopus
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