Crystallization kinetics of amorphous SiC films: Influence of substrate
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2005 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110063264 |
| HGF-Programm | 41.05.01 (POF I, LK 01) MOX-Sensoren |
| Erschienen in | Applied Surface Science |
| Band | 252 |
| Seiten | 1460-70 |
| Nachgewiesen in | Web of Science Dimensions Scopus |