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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.apsusc.2005.02.116

Crystallization kinetics of amorphous SiC films: Influence of substrate

Schmidt, H.; Fotsing, E.R.; Borchardt, G.; Chassagnon, R.; Chevalier, S.; Bruns, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2005
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110063264
HGF-Programm 41.05.01; LK 01
Erschienen in Applied Surface Science
Band 252
Seiten 1460-70
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