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Crystallization kinetics of amorphous SiC films: Influence of substrate

Schmidt, H.; Fotsing, E.R.; Borchardt, G.; Chassagnon, R.; Chevalier, S.; Bruns, M.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.apsusc.2005.02.116
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Zitationen: 29
Dimensions
Zitationen: 30
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2005
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110063264
HGF-Programm 41.05.01 (POF I, LK 01) MOX-Sensoren
Erschienen in Applied Surface Science
Band 252
Seiten 1460-70
Nachgewiesen in Dimensions
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