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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1103/PhysRevLett.96.055901
Web of Science
Zitationen: 38

Nitrogen diffusion in amorphous silicon nitride isotope multilayers probed by neutron reflectometry

Schmidt, H.; Gupta, M.; Bruns, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2006
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110063810
HGF-Programm 43.01.06; LK 01
Erschienen in Physical Review Letters
Band 96
Seiten 055901/1-4
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