Mechanisms for the enhancement of the thermal stability of organic thin films by aluminum oxide capping layers
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Synchrotronstrahlung (ISS) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2006 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110064109 |
| HGF-Programm | 55.51.21 (POF I, LK 02) SpecialFeatures im ANKA-Labor Röntgent. |
| Erschienen in | Journal of Materials Research |
| Band | 21 |
| Seiten | 455-64 |
| Nachgewiesen in | Scopus Web of Science Dimensions |