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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1557/JMR.2006.0052
Web of Science
Zitationen: 4

Mechanisms for the enhancement of the thermal stability of organic thin films by aluminum oxide capping layers

Sellner, S.; Gerlach, A.; Schreiber, F.; Kelsch, M.; Kasper, N.; Dosch, H.; Meyer, S.; Pflaum, J.; Fischer, M.; Gompf, B.; Ulbricht, G.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Synchrotronstrahlung (ISS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2006
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110064109
HGF-Programm 55.51.21; LK 02
Erschienen in Journal of Materials Research
Band 21
Seiten 455-64
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