Comparative study of trap-limited hydrogen diffusion in amorphous SiC, Si₀̣₆₆C₀̣₃₃̗N₁̣₃₃, and SiN₁̣₃₃ films
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2006 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110065077 |
| HGF-Programm | 43.01.06 (POF I, LK 01) Applikations-u.Transferlaboratorien |
| Erschienen in | Journal of Physics: Condensed Matter |
| Band | 18 |
| Seiten | 5363-70 |
| Nachgewiesen in | Scopus Dimensions Web of Science |