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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1103/PhysRevB.74.045203

Simultaneous diffusion of Si and N in silicon nitride

Schmidt, H.; Geckle, U.; Bruns, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2006
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110065204
HGF-Programm 43.01.06; LK 01
Erschienen in Physical Review B
Band 74
Seiten 045203/1-7
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