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Simultaneous diffusion of Si and N in silicon nitride

Schmidt, H.; Geckle, U. 1; Bruns, M. 1
1 Forschungszentrum Karlsruhe (FZKA)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1103/PhysRevB.74.045203
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Zitationen: 26
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2006
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110065204
HGF-Programm 43.01.06 (POF I, LK 01) Applikations-u.Transferlaboratorien
Erschienen in Physical Review B
Band 74
Seiten 045203/1-7
Nachgewiesen in Dimensions
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