Simultaneous diffusion of Si and N in silicon nitride
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2006 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110065204 |
| HGF-Programm | 43.01.06 (POF I, LK 01) Applikations-u.Transferlaboratorien |
| Erschienen in | Physical Review B |
| Band | 74 |
| Seiten | 045203/1-7 |
| Nachgewiesen in | Dimensions Scopus Web of Science |