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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.mseb.2006.06.003

Laser annealing of BST thin films with reduced cracking at an elevated temperature

Halder, S.; Boettger, U.; Schneller, T.; Waser, R.; Baldus, O.; Jacobs, P.; Wehner, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2006
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110066025
HGF-Programm 43.01.02; LK 01
Erschienen in Materials Science and Engineering B
Band 133
Seiten 235-40
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