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Optical, structural, and electrical properties of Mg₂NiH₄ thin films in situ grown by activated reactive evaporation

Westerwaal, R.J.; Slaman, M.; Broedersz, C.P.; Borsa, D.M.; Dam, B.; Griessen, R.; Borgschulte, A.; Lohstroh, W.; Kooi, B.; ten Brink, G.; Tschersich, K.G.; Fleischhauer, H.P.

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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1063/1.2349473
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Web of Science
Zitationen: 17
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seit 06.05.2018
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2006
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110066052
HGF-Programm 43.03.02 (POF I, LK 01)
Erschienen in Journal of Applied Physics
Band 100
Seiten 063518/1-8
Nachgewiesen in Web of Science
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