Optical, structural, and electrical properties of Mg₂NiH₄ thin films in situ grown by activated reactive evaporation

Westerwaal, R. J.; Slaman, M.; Broedersz, C. P.; Borsa, D. M.; Dam, B.; Griessen, R.; Borgschulte, A.; Lohstroh, W.; Kooi, B.; ten Brink, G.; Tschersich, K. G.; Fleischhauer, H. P.

doi:10.1063/1.2349473

Optical, structural, and electrical properties of Mg₂NiH₄ thin films in situ grown by activated reactive evaporation

Westerwaal, R. J.; Slaman, M.; Broedersz, C. P.; Borsa, D. M.; Dam, B.; Griessen, R.; Borgschulte, A.; Lohstroh, W. ¹; Kooi, B.; ten Brink, G.; Tschersich, K. G.; Fleischhauer, H. P.
¹ Forschungszentrum Karlsruhe (FZKA)

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DOI: 10.1063/1.2349473

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	2006
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 110066052
HGF-Programm	43.03.02 (POF I, LK 01) Größenabhängige Eigenschaften
Erschienen in	Journal of Applied Physics
Band	100
Seiten	063518/1-8
Nachgewiesen in	Scopus Web of Science Dimensions

Repository KITopen

Optical, structural, and electrical properties of Mg₂NiH₄ thin films in situ grown by activated reactive evaporation