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Optical, structural, and electrical properties of Mg₂NiH₄ thin films in situ grown by activated reactive evaporation

Westerwaal, R. J.; Slaman, M.; Broedersz, C. P.; Borsa, D. M.; Dam, B.; Griessen, R.; Borgschulte, A.; Lohstroh, W. 1; Kooi, B.; ten Brink, G.; Tschersich, K. G.; Fleischhauer, H. P.
1 Forschungszentrum Karlsruhe (FZKA)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1063/1.2349473
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Zitationen: 22
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Zitationen: 23
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2006
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110066052
HGF-Programm 43.03.02 (POF I, LK 01) Größenabhängige Eigenschaften
Erschienen in Journal of Applied Physics
Band 100
Seiten 063518/1-8
Nachgewiesen in Dimensions
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