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Optical, structural, and electrical properties of Mg₂NiH₄ thin films in situ grown by activated reactive evaporation

Westerwaal, R.J.; Slaman, M.; Broedersz, C.P.; Borsa, D.M.; Dam, B.; Griessen, R.; Borgschulte, A.; Lohstroh, W.; Kooi, B.; ten Brink, G.; Tschersich, K.G.; Fleischhauer, H.P.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2006
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110066052
HGF-Programm 43.03.02; LK 01
Erschienen in Journal of Applied Physics
Band 100
Seiten 063518/1-8
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