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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1063/1.2384806
Web of Science
Zitationen: 3

Magnetic and chemical properties of Co₂MnSi thin films compared to the Co₂MnSi/Al-O interface

Schmalhorst, J.; Sacher, M.D.; Höink, V.; Reiss, G.; Hütten, A.; Engel, D.; Ehresmann, A.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2006
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110066946
HGF-Programm 43.03.03; LK 01
Erschienen in Journal of Applied Physics
Band 100
Seiten 113903/1-4
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