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High purity Si-C-N thin films with tailored composition on the tie line SiC-Si₃N₄

Rudolphi, M.; Bruns, M.; Baumann, H.; Geckle, U.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.diamond.2006.12.037
Scopus
Zitationen: 11
Web of Science
Zitationen: 10
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2007
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110067695
HGF-Programm 43.03.06 (POF I, LK 01)
Erschienen in Diamond and Related Materials
Band 16
Seiten 1273-77
Nachgewiesen in Scopus
Web of Science
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