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High purity Si-C-N thin films with tailored composition on the tie line SiC-Si₃N₄

Rudolphi, M.; Bruns, M. 1; Baumann, H.; Geckle, U. 1
1 Forschungszentrum Karlsruhe (FZKA)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.diamond.2006.12.037
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Zitationen: 13
Dimensions
Zitationen: 12
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2007
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110067695
HGF-Programm 43.03.06 (POF I, LK 01) Konstitution, Synthese u.Processing
Erschienen in Diamond and Related Materials
Band 16
Seiten 1273-77
Nachgewiesen in Dimensions
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