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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s00542-006-0213-0
Web of Science
Zitationen: 3

Fabrication of RF MEMS variable capacitors by deep X-ray lithography and electroplating

Achenbach, S.; Klymyshyn, D.; Haluzan, D.; Mappes, T.; Wells, G.; Mohr, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2007
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110067898
HGF-Programm 51.04.04 (POF I, LK 01)
Erschienen in Microsystem Technologies
Band 13
Seiten 343-47
Nachgewiesen in Web of Science
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