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Structure quality in deep X-ray lithography applying commercial polyimide-based masks

Achenbach, S. 1; Börner, M. 1; Kinuta, S.; Bacher, W. 1; Mohr, J. 1; Saile, V. 1; Saotome, Y.
1 Forschungszentrum Karlsruhe (FZKA)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s00542-006-0223-y
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Zitationen: 12
Dimensions
Zitationen: 13
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2007
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110067899
HGF-Programm 51.04.04 (POF I, LK 01)
Erschienen in Microsystem Technologies
Band 13
Seiten 349-53
Nachgewiesen in Dimensions
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