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Structure quality in deep X-ray lithography applying commercial polyimide-based masks

Achenbach, S.; Börner, M.; Kinuta, S.; Bacher, W.; Mohr, J.; Saile, V.; Saotome, Y.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s00542-006-0223-y
Scopus
Zitationen: 11
Web of Science
Zitationen: 8
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2007
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110067899
HGF-Programm 51.04.04 (POF I, LK 01)
Erschienen in Microsystem Technologies
Band 13
Seiten 349-53
Nachgewiesen in Scopus
Web of Science
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