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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s00542-006-0223-y
Web of Science
Zitationen: 6

Structure quality in deep X-ray lithography applying commercial polyimide-based masks

Achenbach, S.; Börner, M.; Kinuta, S.; Bacher, W.; Mohr, J.; Saile, V.; Saotome, Y.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2007
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110067899
HGF-Programm 51.04.04; LK 01
Erschienen in Microsystem Technologies
Band 13
Seiten 349-53
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