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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s00542-006-0182-3
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Zitationen: 16
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Zitationen: 15

Process conditions in X-ray lithography for the fabrication of devices with sub-micron feature sizes

Mappes, T.; Achenbach, S.; Mohr, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2007
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110067907
HGF-Programm 43.04.04 (POF I, LK 01)
Erschienen in Microsystem Technologies
Band 13
Seiten 355-60
Nachgewiesen in Web of Science
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