Process conditions in X-ray lithography for the fabrication of devices with sub-micron feature sizes
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2007 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110067907 |
| HGF-Programm | 43.04.04 (POF I, LK 01) Photonische Systeme |
| Erschienen in | Microsystem Technologies |
| Band | 13 |
| Seiten | 355-60 |
| Nachgewiesen in | Dimensions Scopus Web of Science |