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Nanogranular SnO₂ layers for gas sensing applications by in-situ deposition of nanoparticles produced by the Karlsruhe microwave plasma process

Schumacher, B.; Ochs, R.; Tröße, H.; Schlabach, S.; Bruns, M.; Szabo, D.V.; Haußelt, J.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/ppap.200732101
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Web of Science
Zitationen: 5
Seitenaufrufe: 2
seit 07.12.2018
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2007
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1612-8850, 1612-8869
urn:nbn:de:swb:90-AAA1100682752
KITopen-ID: 110068275
HGF-Programm 43.03.06 (POF I, LK 01)
Erschienen in Plasma processes and polymers
Band 4
Seiten S865-S870
Nachgewiesen in Web of Science
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