Patterning of porous silicon by metal-assisted chemical etching under open circuit potential conditions
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Festkörperphysik (IFP) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2007 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 110068673 |
| HGF-Programm | 52.01.01 (POF I, LK 01) Elektr.Eigenschaften.Magnetismus u.SL |
| Erschienen in | Physica E |
| Band | 38 |
| Seiten | 44-49 |
| Nachgewiesen in | Scopus Dimensions Web of Science |