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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1063/1.2770821
Web of Science
Zitationen: 10

Structural relaxation and self-diffusion in covalent amorphous solids: silicon nitride as a model system

Schmidt, H.; Gruber, W.; Gutberlet, T.; Ay, M.; Stahn, J.; Geckle, U.; Bruns, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2007
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110069051
HGF-Programm 43.03.06 (POF I, LK 01)
Erschienen in Journal of Applied Physics
Band 102
Seiten 043516/1-6
Nachgewiesen in Web of Science
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