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X-ray lithography for devices with high aspect ratio polymer submicron structures

Mappes, T.; Achenbach, S.; Mohr, J.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.mee.2007.01.154
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Zitationen: 21
Dimensions
Zitationen: 24
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2007
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110069805
HGF-Programm 43.04.04 (POF I, LK 01) Photonische Systeme
Erschienen in Microelectronic Engineering
Band 84
Seiten 1235-39
Nachgewiesen in Dimensions
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