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Microcrystalline silicon formation by silicon nanoparticles

Schierning, G. 1; Theissmann, R. 1; Wiggers, H.; Sudfeld, D.; Ebbers, A.; Franke, D.; Witusiewicz, V. T.; Apel, M.
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1063/1.2903908
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Zitationen: 39
Dimensions
Zitationen: 39
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2008
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110071853
HGF-Programm 43.02.03 (POF I, LK 01) Kontaktierung und Transport
Erschienen in Journal of Applied Physics
Band 103
Seiten 084305/1-6
Nachgewiesen in Dimensions
Web of Science
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