KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1140/epjst/e2008-00683-1
Web of Science
Zitationen: 5

NiMnGa nanostructures produced by electron beam lithography and Ar-ion etching

Auernhammer, D.; Schmitt, M.; Ohtsuka, M.; Kohl, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2008
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110072007
HGF-Programm 43.01.06; LK 01
Erschienen in European Physical Journal - Special Topics
Band 158
Seiten 249-54
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page