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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.actamat.2007.10.005
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Zitationen: 33

How to measure atomic diffusion processes in the sub-nanometer range

Schmidt, H.; Gupta, M.; Gutberlet, T.; Stahn, J.; Bruns, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2008
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110072375
HGF-Programm 43.03.06 (POF I, LK 01)
Erschienen in Acta Materialia
Band 56
Seiten 464-70
Nachgewiesen in Scopus
Web of Science
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