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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s00542-007-0503-1
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Zitationen: 20

Why you will use the deep X-ray LIG(A) technology to produce MEMS?

Meyer, P.; Schulz, J.; Hahn, L.; Saile, V.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2008
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110072598
HGF-Programm 43.01.06 (POF I, LK 01)
Erschienen in Microsystem Technologies
Band 14
Seiten 1491-97
Nachgewiesen in Scopus
Web of Science
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