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Residual stress in Ni-Mn-Ga thin films deposited on different substrates

Doyle, S. 1; Chernenko, V. A.; Besseghini, S.; Gambardella, A.; Kohl, M. 2; Müllner, P.; Ohtsuka, M.
1 Forschungszentrum Karlsruhe (FZKA)
2 Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1140/epjst/e2008-00660-8
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Zitationen: 30
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Zitationen: 26
Dimensions
Zitationen: 31
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Institut für Synchrotronstrahlung (ISS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2008
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110072623
HGF-Programm 43.01.01 (POF I, LK 01) Lithographie
Erschienen in European Physical Journal - Special Topics
Band 158
Seiten 99-105
Nachgewiesen in Dimensions
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