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Residual stress in Ni-Mn-Ga thin films deposited on different substrates

Doyle, S.; Chernenko, V.A.; Besseghini, S.; Gambardella, A.; Kohl, M.; Müllner, P.; Ohtsuka, M.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1140/epjst/e2008-00660-8
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Zitationen: 23
Web of Science
Zitationen: 20
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Institut für Synchrotronstrahlung (ISS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2008
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110072623
HGF-Programm 43.01.01 (POF I, LK 01)
Lithographie
Erschienen in European Physical Journal - Special Topics
Band 158
Seiten 99-105
Nachgewiesen in Scopus
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