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Submicron-scale surface acoustic wave resonators fabricated by high aspect ratio X-ray lithography and aluminum lift-off

Achenbach, S. 1; Klymyshyn, D.; Mappes, T. 1; Kachayev, A.; Subramanian, V.; Wells, G.; Mohr, J. 1
1 Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s00542-007-0498-7
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Zitationen: 4
Dimensions
Zitationen: 5
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2008
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110072634
HGF-Programm 43.04.04 (POF I, LK 01) Photonische Systeme
Erschienen in Microsystem Technologies
Band 14
Seiten 1715-19
Nachgewiesen in Dimensions
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