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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s00542-007-0498-7
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Zitationen: 3

Submicron-scale surface acoustic wave resonators fabricated by high aspect ratio X-ray lithography and aluminum lift-off

Achenbach, S.; Klymyshyn, D.; Mappes, T.; Kachayev, A.; Subramanian, V.; Wells, G.; Mohr, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2008
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110072634
HGF-Programm 43.04.04 (POF I, LK 01)
Erschienen in Microsystem Technologies
Band 14
Seiten 1715-19
Nachgewiesen in Web of Science
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