Heat of formation of the HOSO₂ radical from accurate quantum chemical calculations
Klopper, Wim
1,2,3; Tew, David P. 1,3; Gonzalez-Garcia, Núria 1; Olzmann, Matthias 1
1 Institut für Physikalische Chemie (IPC), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Center for Functional Nanostructures (CFN), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1,2,3; Tew, David P. 1,3; Gonzalez-Garcia, Núria 1; Olzmann, Matthias 11 Institut für Physikalische Chemie (IPC), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Center for Functional Nanostructures (CFN), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) Institut für Physikalische Chemie (IPC) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2008 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0021-9606, 1089-7690, 1520-9032 KITopen-ID: 110073506 |
| HGF-Programm | 43.02.01 (POF I, LK 01) Theorie nanoelektronischer Systeme |
| Erschienen in | The journal of chemical physics |
| Verlag | American Institute of Physics (AIP) |
| Band | 129 |
| Heft | 11 |
| Seiten | Article no: 114308 |
| Nachgewiesen in | Scopus Dimensions Web of Science |