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Structural behaviour of synthetic Co₂SiO₄ at low temperatures

Sazonov, A.; Meven, M.; Hutanu, V.; Heger, G.; Trots, D.; Merz, M. 1
1 Institut für Festkörperphysik (IFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1107/S010876810803214X
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Zitationen: 8
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Zitationen: 6
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Festkörperphysik (IFP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2008
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110073622
HGF-Programm 52.01.01 (POF I, LK 01) Elektr.Eigenschaften.Magnetismus u.SL
Erschienen in Acta Crystallographica B
Band 64
Seiten 661-68
Nachgewiesen in Web of Science
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