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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.tsf.2007.12.163
Web of Science
Zitationen: 32

Study of the hydride forming process of in-situ grown MgH₂ thin films by activated reactive evaporation

Westerwaal, R.J.; Broedersz, C.P.; Gremaud, R.; Slaman, M.; Borgschulte, A.; Lohstroh, W.; Tschersich, K.G.; Fleischhauer, H.P.; Dam, B.; Griessen, R.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2008
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110073707
HGF-Programm 43.03.07; LK 01
Erschienen in Thin Solid Films
Band 516
Seiten 4351-59
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