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White beam topography of 300 mm Si-wafers

Danilewsky, A.N.; Wittge, J.; Rack, A.; Weitkamp, T.; Simon, R.; Baumbach, T.; McNally, P.

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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s10854-007-9480-5
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Zitationen: 9
Web of Science
Zitationen: 11
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Synchrotronstrahlung (ISS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2008
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110074281
HGF-Programm 55.51.10 (POF I, LK 02)
Erschienen in Journal of Materials Science: Materials in Electronics
Band 19
Seiten 269-72
Erscheinungsvermerk Suppl.1
Nachgewiesen in Web of Science
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