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White beam topography of 300 mm Si-wafers

Danilewsky, A. N.; Wittge, J.; Rack, A. 1; Weitkamp, T. 1; Simon, R. 1; Baumbach, T. 1; McNally, P.
1 Forschungszentrum Karlsruhe (FZKA)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s10854-007-9480-5
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Zitationen: 13
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Zitationen: 12
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Synchrotronstrahlung (ISS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2008
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110074281
HGF-Programm 55.51.10 (POF I, LK 02) Betrieb und Entw.d.ANKA Beaml.u.Nutzers.
Erschienen in Journal of Materials Science: Materials in Electronics
Band 19
Seiten 269-72
Erscheinungsvermerk Suppl.1
Nachgewiesen in Scopus
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Web of Science
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