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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.diamond.2009.01.015
Web of Science
Zitationen: 5

Influence of argon gas pressure and target power on magnetron plasma parameters

Nguyen, T.; Ulrich, S.; Bsul, J.; Beauvais, S.; Burger, W.; Albers, A.; Stüber, M.; Ye, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 110076216
HGF-Programm 43.03.06; LK 01
Erschienen in Diamond and Related Materials
Band 18
Seiten 995-98
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