Influence of argon gas pressure and target power on magnetron plasma parameters

Nguyen, T.; Ulrich, S.; Bsul, J.; Beauvais, S.; Burger, W.; Albers, A.; Stüber, M.; Ye, J.

doi:10.1016/j.diamond.2009.01.015

Influence of argon gas pressure and target power on magnetron plasma parameters

Nguyen, T. ¹; Ulrich, S. ²; Bsul, J. ¹; Beauvais, S. ¹; Burger, W. ¹; Albers, A. ¹; Stüber, M. ²; Ye, J. ²
¹ Institut für Produktentwicklung (IPEK), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
² Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

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DOI: 10.1016/j.diamond.2009.01.015

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	2009
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 110076216
HGF-Programm	43.03.06 (POF II, LK 01) Konstitution, Synthese u.Processing
Erschienen in	Diamond and Related Materials
Band	18
Seiten	995-98
Nachgewiesen in	Web of Science Dimensions Scopus

Repository KITopen

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