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Influence of argon gas pressure and target power on magnetron plasma parameters

Nguyen, T. 1; Ulrich, S. 2; Bsul, J. 1; Beauvais, S. 1; Burger, W. 1; Albers, A. 1; Stüber, M. 2; Ye, J. 2
1 Institut für Produktentwicklung (IPEK), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.diamond.2009.01.015
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Zitationen: 7
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Zitationen: 7
Dimensions
Zitationen: 7
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110076216
HGF-Programm 43.03.06 (POF II, LK 01) Konstitution, Synthese u.Processing
Erschienen in Diamond and Related Materials
Band 18
Seiten 995-98
Nachgewiesen in Dimensions
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