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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.tsf.2009.06.005
Web of Science
Zitationen: 2

Si diffusion in magnetron sputtered silicon carbide films deposited on silicon and carbon substrates

Gruber, W.; Geckle, U.; Bruns, M.; Schmidt, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110076996
HGF-Programm 43.03.06 (POF II, LK 01)
Erschienen in Thin Solid Films
Band 518
Seiten 396-98
Nachgewiesen in Web of Science
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