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Si diffusion in magnetron sputtered silicon carbide films deposited on silicon and carbon substrates

Gruber, W.; Geckle, U. 1; Bruns, M. 1; Schmidt, H.
1 Institut für Meteorologie und Klimaforschung Troposphärenforschung (IMKTRO), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.tsf.2009.06.005
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Zitationen: 4
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Zitationen: 4
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Zitationen: 4
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110076996
HGF-Programm 43.03.06 (POF II, LK 01) Konstitution, Synthese u.Processing
Erschienen in Thin Solid Films
Band 518
Seiten 396-98
Nachgewiesen in Scopus
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