KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1103/PhysRevB.80.220101
Web of Science
Zitationen: 7

Atomic transport in metastable compounds: case study of self-diffusion in Si-C-N films using neutron reflectometry

Hüger, E.; Schmidt, H.; Stahn, J.; Braunschweig, B.; Geckle, U.; Bruns, M.; Markwitz, A.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110077419
HGF-Programm 43.03.06 (POF II, LK 01)
Erschienen in Physical Review B
Band 80
Seiten 220101/1-4
Nachgewiesen in Web of Science
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page