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Atomic transport in metastable compounds: case study of self-diffusion in Si-C-N films using neutron reflectometry

Hüger, E.; Schmidt, H.; Stahn, J.; Braunschweig, B.; Geckle, U. 1; Bruns, M. 1; Markwitz, A.
1 Institut für Meteorologie und Klimaforschung – Forschungsbereich Troposphäre (IMK-TRO), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1103/PhysRevB.80.220101
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Zitationen: 13
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 110077419
HGF-Programm 43.03.06 (POF II, LK 01) Konstitution, Synthese u.Processing
Erschienen in Physical Review B
Band 80
Seiten 220101/1-4
Nachgewiesen in Dimensions
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